半導体ギ酸リフロー用フラックスフリーラボ用真空リフローオーブン
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半導体ギ酸リフロー用フラックスフリーラボ用真空リフローオーブン

半導体ギ酸リフロー用フラックスフリーラボ用真空リフローオーブン

パッケージサイズ 85.00cm * 65.00cm * 49.00cm パッケージ総重量 54.000kg フラックスフリー 半導体ギ酸リフロー用実験室用真空リフローオーブン モデル: N300 N300 卓上炉の特徴 1. コンピュータ
基本情報
モデル番号。N300
保証12ヶ月
自動グレード半自動
インストール垂直
酸素含有量400ppm
使用法SMTと半導体
ガス窒素
電圧220V
はんだ付けエリア300*300mm
輸送パッケージポリウッドケース
仕様1200*1100*1400mm
商標松明
起源中国、北京
HSコード8514101000
生産能力100セット/年
梱包と配送
パッケージサイズ 85.00cm * 65.00cm * 49.00cm パッケージ総重量 54.000kg
製品説明
フラックスフリーのラボ用半導体ギ酸リフロー用真空リフロー炉
モデル: N300

N300卓上炉の特長
1. コンピュータ制御
コンピュータソフトウェアによるパラメータの操作により、さまざまな溶接要件に対応できます。
2. 高精度、多機能
メーター制御プログラムの難しさ、パラメータ変更の難しさ、温度曲線の保存の制限などの欠点を克服します。 トーチ自社製の温度制御ソフトウェアを採用。 温度カーブを直感的に設定できます。 また、多数の温度曲線を保存できます。 分析・統計機能、印刷機能。

Flux Free Laboratory Vacuum Reflow Oven for Semiconductor Formic Reflow


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